Tuning the Photophysical Properties of Photostable Benzo[b]phosphole P-Oxide-Based Fluorophores
R. Adler, C. Wang, A. Fukazawa, S. Yamaguchi, Inorg. Chem., ASAP.
[DOI: 10.1021/acs.inorgchem.7b00658]
我々は最近,架橋構造により平面固定化したアミノ置換ベンゾ[b]ホスホール-P-オキシド誘導体 C-Bphox および C-Naphox が既存の蛍光色素と比較して圧倒的に高い耐光性をもつことを見出し,従来の色素では実現困難なSTED顕微鏡での繰り返し観察が可能となることを明らかにしている (Angew. Chem. Int. Ed. 2015, 54, 15213). この「超耐光性」とも呼べる並外れた耐光性を実現するための分子設計指針についてさらなる知見を得るとともに,励起および発光波長のさらなるチューニングを行うことを目的とし,本研究では架橋部位に異なるかさ高さの置換基をもつ炭素およびケイ素架橋ベンゾホスホールオキシドを合成し,架橋部位が光学特性や耐光性に及ぼす効果について検討した.その結果,ケイ素架橋ベンゾホスホールオキシドがより長波長側に吸収および蛍光を示すことに加え,架橋部位の置換基のかさ高さが超耐光性の実現に重要であることを明らかにした.この結果は,超耐光性蛍光色素の分子設計に重要な指針を与えるものであるといえる.
Constrained 2-phenylbenzo[b]phosphole P-oxides bearing diphenylamino groups at the terminal positions as well as carbon- and silicon-bridging moieties were synthesized. The study on the impact of the bridging moieties on their photophysical properties revealed that even the silicon-brdiged compounds show outstanding photostability under irradiation with a xenon lamp, as far as the bridging moieties have sufficient steric bulkiness.
ケイ素架橋ベンゾホスホールオキシド:超耐光性蛍光色素の分子設計
2017/04/11